Evasão nas escolas de ensino técnico e profissionalizante: desafios à permanência e ao sentido de formação

Abstract

A evasão escolar no ensino técnico e profissionalizante no Brasil configura-se como um fenômeno estrutural que incide diretamente sobre os objetivos da Educação Profissional e Tecnológica, especialmente no que se refere à formação integral e à promoção da inclusão social. Este artigo analisa a evasão escolar nessa modalidade de ensino, buscando identificar os principais fatores associados ao abandono e compreender de que maneira as condições socioeconômicas, a organização pedagógica e o sentido atribuído à formação influenciam a permanência dos estudantes. A pesquisa adotou abordagem qualitativa, de natureza descritivo-analítica, e foi desenvolvida por meio de revisão bibliográfica de produções acadêmicas brasileiras publicadas a partir de 2022 e de análise documental de dados oficiais do Instituto Nacional de Estudos e Pesquisas Educacionais Anísio Teixeira. Os procedimentos metodológicos envolveram leitura sistemática e análise crítica da literatura selecionada, bem como a interpretação de informações provenientes do Censo Escolar da Educação Básica, articuladas às categorias teóricas da Educação Profissional e Tecnológica. Os resultados indicaram que a evasão escolar decorreu da articulação entre vulnerabilidade socioeconômica, necessidade de conciliar estudo e trabalho, fragilidades nas políticas de assistência estudantil e limitações pedagógicas, como currículos fragmentados e excessivamente tecnicistas. Evidenciou-se, ainda, que a baixa integração da cultura digital às práticas pedagógicas e a dificuldade de atribuição de sentido social à formação técnica contribuíram para o desengajamento discente e o enfraquecimento do vínculo com a instituição escolar. Conclui-se que o enfrentamento da evasão na Educação Profissional e Tecnológica exige políticas públicas integradas e práticas pedagógicas comprometidas com a formação humana integral, capazes de articular acesso, permanência e êxito escolar.